高温真空グラフィティゼーションオーブン,連続供給と高効率のフィルタリング

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起源の場所: 中国湖南

ブランド名: Jingtan

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価格: $100,000

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タイプ:	誘導炉	電圧:	380
重さ:	2 t	最高温度:	2400℃
加熱方法:	誘導加熱	炉の大気:	真空または惰性ガス保護 (軽微の正圧)
出力範囲:	50〜200kg/h	制御方法:	手動または自動操作
負荷容量:	10-250 l	温度差:	±3.5～±8℃
コアコンポーネント:	PLC,ポンプ	加熱要素:	抵抗グラファイトロッド
精製方法:	高温＋化学的方法	連続動作:	はい
ろ過システム:	高性能粉塵・腐食性ガストラップ

タイプ:	誘導炉
電圧:	380
重さ:	2 t
最高温度:	2400℃
加熱方法:	誘導加熱
炉の大気:	真空または惰性ガス保護 (軽微の正圧)
出力範囲:	50〜200kg/h
制御方法:	手動または自動操作
負荷容量:	10-250 l
温度差:	±3.5～±8℃
コアコンポーネント:	PLC,ポンプ
加熱要素:	抵抗グラファイトロッド
精製方法:	高温＋化学的方法
連続動作:	はい
ろ過システム:	高性能粉塵・腐食性ガストラップ

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高温真空グラフィティゼーションオーブン,連続供給と高効率のフィルタリング

炭素ナノチューブ浄化高温真空炉

高性能炭素ナノチューブ浄化炉,炭素ナノチューブ材料の高温グラフィティゼーション浄化のために設計されている.高温浄化と化学浄化方法を組み合わせる新しいエネルギー用車,半導体,先進材料の用途に最適です

製品仕様

モデル	GJC-DCL-4	GJC-DCL-10	GJC-DCL-15
生産量 (kg/h)	50から90	100から140	150〜200
最大温度 (°C)	2400
熱する方法	抵抗性グラフィット棒の加熱
制御方法	手動または自動操作
負荷容量 (L)	10から40	40〜120	120〜250
恒温帯の温度差 (°C)	±35	±5	±8
オーブンの作業環境	真空または惰性ガス保護 (軽微の正圧)